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冠石半導(dǎo)體入場首臺先進(jìn)電子束掩模版光刻機(jī)

2024/7/15 10:54:57      挖貝網(wǎng) 李輝

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近日，寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，企業(yè)引入首臺電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。

寧波冠石半導(dǎo)體公司是一家專業(yè)從事半導(dǎo)體光掩模版制造的企業(yè)，企業(yè)主要從事45-28nm半導(dǎo)體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。光掩模版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，其功能類似于相機(jī)的“底片”。作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。目前，我國高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進(jìn)口，國產(chǎn)化率極低。

從2023年5月16日落筆簽約，同年10月1日落地開工，2024年1月27日落成結(jié)頂，到如今設(shè)備陸續(xù)進(jìn)場，搭乘營商環(huán)境優(yōu)化提升“一號改革工程”的“東風(fēng)”，寧波冠石半導(dǎo)體公司建設(shè)按下“快進(jìn)鍵”，再次刷新前灣新區(qū)數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)的新速度。

門檻高、壁壘厚、而需求旺，光掩模版產(chǎn)業(yè)發(fā)展空間價(jià)值凸顯，在廣闊的國內(nèi)外市場大有可為。當(dāng)前，冠石一期潔凈車間設(shè)計(jì)產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180納米至28納米集成電路掩模版。據(jù)冠石相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，企業(yè)正加速推進(jìn)海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導(dǎo)體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預(yù)計(jì)今年底，企業(yè)將陸續(xù)實(shí)現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。

光掩模版制造是數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)，是急需補(bǔ)上的“卡脖子”產(chǎn)業(yè)，也是彎道超車、換道超車的重要賽道。寧波冠石半導(dǎo)體是新區(qū)補(bǔ)齊半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán)。企業(yè)建成投產(chǎn)后將成為國內(nèi)技術(shù)能力先進(jìn)的獨(dú)立光掩模版生產(chǎn)企業(yè)，可填補(bǔ)國內(nèi)高階制程光罩空白，打破國外高端光掩模版的壟斷局面，提高我國半導(dǎo)體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。

產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展，要做到“新”中有“數(shù)”。為此，前灣新區(qū)大力招引冠石在內(nèi)的數(shù)字經(jīng)濟(jì)重點(diǎn)項(xiàng)目，攻克芯片、半導(dǎo)體等一批關(guān)鍵核心技術(shù)，構(gòu)建以企業(yè)為主體的技術(shù)創(chuàng)新體系。

近年來，前灣新區(qū)聚焦數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)，引進(jìn)相關(guān)項(xiàng)目超60個，總投資超300億元，聚集了一大批數(shù)字經(jīng)濟(jì)龍頭企業(yè)，初步培育形成集成電路、智能終端、汽車電子、軟件設(shè)計(jì)、關(guān)鍵傳感器等數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)鏈。

為進(jìn)一步優(yōu)化數(shù)字產(chǎn)業(yè)發(fā)展生態(tài)環(huán)境，前灣新區(qū)還組建20億元的數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金，專門投向電子信息制造、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)、5G+、人工智能等產(chǎn)業(yè)方向，助力數(shù)字經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)加快發(fā)展。